@phdthesis{Kletschkus2020, author = {Karsten Kletschkus}, title = {Emission von ultravioletter Strahlung von 168 nm bis 275 nm (UVC) und Bildung von Stickoxiden bei der Verwendung eines Ger{\"a}tes zur Erzeugung kalten physikalischen Plasmas}, journal = {UV emission from 168 nm to 275nm and generation of NOx of a cold Argon plasma device}, url = {https://nbn-resolving.org/urn:nbn:de:gbv:9-opus-40658}, pages = {91}, year = {2020}, abstract = {In der vorliegenden Arbeit wurde die Argon Plasma Quelle „MiniJet-R“ von HHF-Elektronik, Aachen, auf ihre Eignung als medizinischer CAP-Generator und ihre Emission von UVC-Strahlung und NO2 untersucht. Dabei wurde die Emission von UVC-Strahlung auf ihre Abstandsabh{\"a}ngigkeit und ihre Winkelverteilung vermessen. Die UVC-Intensit{\"a}t nimmt im f{\"u}r Entfernungen bis ca. einer Plasmaflammenl{\"a}nge weniger schnell als 1/r² ab. Erst ab Entfernungen die ca. zwei Plasmaflammenl{\"a}ngen entsprechen nimmt die UVC-Intensit{\"a}t mit 1/r² ab. Die Intensit{\"a}t ist {\"u}ber alle Winkel gleich verteilt, bis eine durch den apparativen Aufbau der Quelle bedingte Abschattung bei Winkeln ab 85° einsetzt. Weiter wurde die Abh{\"a}ngigkeit der UVC-Intensit{\"a}t von den Betriebsparametern Argon Gasdurchfluss und Power Level untersucht. Dabei wurde gezeigt, dass die UVC-Intensit{\"a}t mit steigendem Gasdurchfluss abnimmt. Bei der Charakterisierung der Power Level – Abh{\"a}ngigkeit zeigte sich, dass die UVC-Intensit{\"a}t bei Power Level 3 ein Minimum hat. Zur n{\"a}heren Bestimmung der UVC-Strahlung des Plasmas wurde das Spektrum des Plasmas von 168nm bis 275nm aufgenommen. Durch den Vergleich des gemessenen Spektrums und eines berechneten NO-Spektrums konnte NO als Hauptquelle der UVC-Strahlung nachgewiesen werden. Mittels Chemilumineszens-Messung konnte au{\"s}erhalb des Plasmas NO2 als verbleibende Komponente identifiziert werden, w{\"a}hrend NO nur in vernachl{\"a}ssigbaren Konzentrationen au{\"s}erhalb des Plasmas nachweisbar war. In weiteren Messungen wurde die NO2-Erzeugung des Plasmas in Abh{\"a}ngigkeit der Betriebsparameter Gasdurchfluss und Powerlevel sowie die NO2-Konzentration in der Raumluft in Abh{\"a}ngigkeit vom Abstand und von der Richtung zum Plasma bestimmt. Dabei wurde nachgewiesen, dass bei ausreichendem Abstand zum Plasma die NO2-Konzentration unterhalb des Arbeitsplatzgrenzwertes liegt. Unter ung{\"u}nstigen Betriebsbedingungen und in unmittelbarer Umgebung konnten allerdings auch erheblich h{\"o}here Konzentrationen festgestellt werden. Die gemessenen UVC-Intensit{\"a}ten und NO2-Konzentrationen werden mit den geltenden Maximalwerten unter dem Aspekt der Arbeitsplatzsicherheit verglichen. Abschlie{\"s}end erfolgt eine Beurteilung der CAP-Quelle „Minijet-R“ und eine Beschreibung einer idealen CAP-Quelle.}, language = {de} }