TY - THES U1 - Dissertation / Habilitation A1 - Lawrenz, Frank T1 - Herstellung ultradünner Galliumschichten und Charakterisierung ihrer mechanischen, optischen und elektrischen Eigenschaften N2 - In dieser Arbeit wird ein einfaches Verfahren zur Herstellung ultradünner (3 nm) Galliumschichten unter Umgebungsbedingungen beschrieben. Die Schichten sind stabil bis zu einem Auflage-Druck im GPa-Bereich und replizieren die zugrundeliegende Substratrauheit sowie größere Strukturen. Weiterhin wird ihre Eignung als Permeationsbarriere gezeigt. Mithilfe von optischen und elektrischen Messungen wird schließlich anhand des Drude-Modells die Alterung (Oxidation) der Schichten unter Umgebungsbedingungen beschrieben. N2 - In this work, a simple method for manufacturing ultrathin (3 nm) gallium-layers under ambient conditions is described. The layers are stable up to a mechanical stress in the GPa range and replicate the underlying substrate roughness and larger structures. Furthermore, their application as a permeation barrier is shown. Finally, using optical and electrical measurements the aging (oxidation) of the layers under ambient conditions is described using the Drude model. KW - Gallium KW - Rasterkraftmikroskopie KW - Ellipsometrie KW - Widerstand KW - Oxidation KW - Fluoreszenz KW - Galliumoxid KW - ultradünn KW - Permeationsbarriere KW - flüssig KW - leitfähig KW - Gallium-Oxide KW - ultra-thin KW - conductive KW - liquid KW - permeation barrier Y2 - 2016 U6 - https://nbn-resolving.org/urn:nbn:de:gbv:9-002541-5 UN - https://nbn-resolving.org/urn:nbn:de:gbv:9-002541-5 ER -