Frank Lawrenz

• In dieser Arbeit wird ein einfaches Verfahren zur Herstellung ultradünner (3 nm) Galliumschichten unter Umgebungsbedingungen beschrieben. Die Schichten sind stabil bis zu einem Auflage-Druck im GPa-Bereich und replizieren die zugrundeliegende Substratrauheit sowie größere Strukturen. Weiterhin wird ihre Eignung als Permeationsbarriere gezeigt. Mithilfe von optischen und elektrischen Messungen wird schließlich anhand des Drude-Modells die Alterung (Oxidation) der Schichten unter Umgebungsbedingungen beschrieben.
• In this work, a simple method for manufacturing ultrathin (3 nm) gallium-layers under ambient conditions is described. The layers are stable up to a mechanical stress in the GPa range and replicate the underlying substrate roughness and larger structures. Furthermore, their application as a permeation barrier is shown. Finally, using optical and electrical measurements the aging (oxidation) of the layers under ambient conditions is described using the Drude model.