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Die Inaktivierung von Bakterien durch Antiseptika, z. B. auf chronischen Wunden ist unter anderem aufgrund der Bildung von Biofilmen erschwert. Ebenso stellt die Entwicklung von Resistenzen gegenüber Antibiotika ein immer größer werdendes Problem bei der Behandlung von Infektionen dar. Zudem ist die antimikrobielle Behandlung nur ein Teilaspekt, um chronisch infizierte Wunden in einen regenerativen Heilungsprozess zu überführen. Daher sind neue, alternative Behandlungsstrategien von hoher Bedeutung. Hierfür scheint physikalisches Plasma aufgrund seiner antimikrobiellen wie auch wundheilungsfördernder Wirkungsweise eine aussichtsreiche Perspektive darzustellen. Zur Erzeugung von sog. Tissue Tollerablen Plasma (TTP) stehen verschiedene Plasmaquellen zur Verfügung, die zur Anwendung gegen Mikroorganismen in Biofilmen in Frage kommen. In der vorliegenden Arbeit wurden der kinpen09 und zwei Dielektrisch-Behinderte-Oberflächen-Entladungs-Quellen, die Conplas- und die Epoxidharz-Plasmaquelle, auf ihre antimikrobielle Wirkungsweise mit Argonplasma mit und ohne Sauerstoffbeimischung und mit Luftplasma v. a. an Biofilmen mit P. aeruginosa SG81 und S. epidermidis RP62A untersucht. Mit dem kinpen09 wurde zusätzlich die antimikrobielle Effektivität von Plasma mit Helium oder Stickstoffbeimischungen getestet. Bei Einsatz des kinpen09 zeigte sich Argon als das antimikrobiell effektivste Trägergas. Bei der Epoxidharz-Plasmaquelle war Luftplasma am wirksamsten. Bei der Conplas sind Luft- und Argonplasma etwa gleich effizient gegen mikrobielle Biofilme. Die Reduktionsraten bei Argonplasma mit dem kinpen09 und Conplas lagen nach 300 s Expositionszeit bei P. aeruginosa bei ca. 5 log10 und mit dem kinpen09 bei S. epidermidis bei 3 log10. Diese Reduktionsraten übersteigen mit Ausnahme von 300 s Ar+O2-Plasma (kinpen09) die Wirksamkeit von Chlorhexidin (0,1 %), einem Standard-Antiseptikum zur Behandlung von Biofilmen, nach 10 min Behandlungsdauer von ca. 1,5 log10 signifikant (p < 0,005). In Übereinstimmung zur Literatur lässt sich aus den Ergebnissen ableiten, dass v. a. Sauerstoffradikale für die antimikrobielle Wirksamkeit verantwortlich sind. Neben der alleinigen Anwendung von TTP könnten Kombinationsbehandlungen mit Antiseptika aussichtsreiche Verfahren zur gezielten Inaktivierung von Mikroorganismen in Biofilmen und zur Modulation von Wundheilungsprozessen darstellen.
Previous studies on the antimicrobial activity of cold atmospheric pressure argon plasma showed varying effects against mecA<sup>+</sup> or mecA<sup>-</sup>Staphylococcus aureus strains. This observation may have important clinical and epidemiological implications. Here, the antibacterial activity of argon plasma was investigated against 78 genetically different S. aureus strains, stratified by mecA, luk-P, agr1-4, or the cell wall capsule polysaccharide types 5 and 8. kINPen09® served as the plasma source for all experiments. On agar plates, mecA<sup>+</sup>luk-P<sup>-</sup>S. aureus strains showed a decreased susceptibility against plasma compared to other S. aureus strains. This study underlines the high complexity of microbial defence against antimicrobial treatment and confirms a previously reported strain-dependent susceptibility of S. aureus to plasma treatment.
Because of some disadvantages of chemical disinfection in dental practice (especially denture cleaning), we investigated the effects of physical methods on Candida albicans biofilms. For this purpose, the antifungal efficacy of three different low-temperature plasma devices (an atmospheric pressure plasma jet and two different dielectric barrier discharges (DBDs)) on Candida albicans biofilms grown on titanium discs in vitro was investigated. As positive treatment controls, we used 0.1% chlorhexidine digluconate (CHX) and 0.6% sodium hypochlorite (NaOCl). The corresponding gas streams without plasma ignition served as negative treatment controls. The efficacy of the plasma treatment was determined evaluating the number of colony-forming units (CFU) recovered from titanium discs. The plasma treatment reduced the CFU significantly compared to chemical disinfectants. While 10 min CHX or NaOCl exposure led to a CFU log10 reduction factor of 1.5, the log10 reduction factor of DBD plasma was up to 5. In conclusion, the use of low-temperature plasma is a promising physical alternative to chemical antiseptics for dental practice.